司书浩，德国伊尔梅瑙工业大学工学博士（Dr.-Ing），硕士生导师，国家技术转移高级技术经理人，长期从事纳米压印光刻及相关微纳加工工艺在光学工程中的应用。
教育经历
2012-2018，德国伊尔梅瑙工业大学（TU-Ilmenau），工学博士（Dr.-Ing）
2009-2012，德国卡塞尔大学（Uni-Kassel），硕士
2007-2009，德国不来梅大学（Uni-Bremen），访问
2004-2008，山东大学信息科学与工程学院，学士
工作经历
2015-2019，德国伊尔梅瑙工业大学，研究员 (Scientific Researcher/Wissenschaftliche Mitarbeiter)
2017-2021，德国5microns GmbH，项目工程师 (Project Engineer/Projektingenieur)
研究方向
纳米压印光刻、半导体微纳加工工艺、光学与光电器件应用
招生信息
专业：光电信息技术
要求：我自认为是一名“学术孤儿”，可能给予不了你丰富的资源，但我始终相信认真做事、脚踏实地是最好的出路。我努力学习待人平等与相互尊重，希望你有积极且向上的人生观与价值观，对科研有进取和敬畏之心。我较你有相对丰富的经验，我倾囊相授，我也希望从你身上学习接纳新鲜事物的能力。希望我们互相帮助，成为更好的自己。
科研项目
2018.11-2019.11，TU-Ilmenau/Microresist Technology，Development of New Commercial Nanoimprint Resist
2016.05-2019.04，德国联邦教育与研究部(BMBF)，Key Technology Nanointegration Utilized for Spectroscopic Sensor Systems
2014.01-2017.09，欧盟EU FP7-ICT，SwIFT – Non-volatile optical Switch combining Integrated Photonics and Fluidics Technologies
2014.10-2017.03，德国联邦教育与研究部(BMBF)，1D-based Sensors for Gas and Magnetic Field Measurements
2016.10-2018.03，德国联邦教育与研究部(BMBF)，Thermopile Sensor Based on Surface Micromechanics for Pyrometry Applications
2008.05-2013.10，德国联邦教育与研究部(BMBF)，Tunable Optical Sensor Array
论文成果
1. Shuhao Si, C.Weigel, M.Messerschmidt, M.W.Thesen, S.Sinzinger, S.Strehle, “A study of imprint and etching behavior on fused silica of a new tailored resist mr-NIL213FC for Soft UV-NIL”, Micro and Nano Engineering, Vol. 6, 100047, April 2020,
DOI: 10.1016/j.mne.2020.100047
2. Shuhao Si, Martin Hoffmann, “Image inverting, topography and feature size manipulation using organic/inorganic bi-layer lift-off for nanoimprint template”, Microelectronic Engineering, Volume 197, 5 October 2018, Pages 39-44,
DOI: 10.1016/j.mee.2018.05.005
3. Shuhao Si, Lars Dittrich, Martin Hoffmann, “The NanoTuFe - Fabrication of large area periodic nanopatterns with tunable feature sizes at low cost”, Microelectronic Engineering, Volume 180, 5 August 2017, Pages 71-80,
DOI: 10.1016/j.mee.2017.06.002
4. Shuhao Si, Martin Hoffmann, “Consecutive imprinting performance of large area UV nanoimprint lithography using bi-layer soft stamps in ambient atmosphere”, Microelectronic Engineering, Volume 176, 25 May 2017, Pages 62-70,
DOI: 10.1016/j.mee.2017.01.032
5. Shuhao Si, Lars Dittrich, Martin Hoffmann, “Low-cost fabrication of nanoimprint templates with tunable feature sizes at a constant pitch”, Microelectronic Engineering, Volume 170, 25 February 2017, Pages 34-38,
DOI: 10.1016/j.mee.2016.12.023
专利成果：
Shuhao Si, Sarah Degenhardt, “Active optical switch system with anti-wetting coating”, EP3510431A1, WO2018049399A1, 2018
